一、500g真空懸浮熔煉爐設備用途
　　真空磁懸浮熔煉方法，是近些年來飛速發(fā)展的一種熔煉方法，主要用來制取高熔點、高純度和極活潑的金屬，在冶金和新材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了廣泛的應用，顯示出良好的應用前景。

采用臥式爐體，側(cè)部開門結(jié)構(gòu)，進出料方便，爐體結(jié)構(gòu)緊湊，占地空間較小。坩堝反映較強烈的材料（如鈦及其合金）更顯示出其優(yōu)勢。在工業(yè)上廣泛應用于鈦、鋯及其合金的熔鑄。真空懸浮爐是專門為材料科學科研而設計的，也是一種專用的現(xiàn)代化高純度熔煉設備。

二、設備特點

1·真空磁懸浮熔煉，料與坩堝無接觸冶煉，干凈無污染。

2·冶煉溫度高，溫度可達2500甚至以上，專門應用于高熔點難熔金屬，活潑金屬等冶煉提純。

3·采用磁懸浮IGBT電源，配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝，懸浮效果好。

4·采用兩級分子泵控制系統(tǒng)真空度高，可達5.0*10-5pa。

三、500g真空懸浮熔煉爐主要技術(shù)參數(shù)

1、額定功率：100Kw

2、容量（以鈦計）：0.5Kg

3、輸入電源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz

4、冷態(tài)極限真空度：6.67×10E-4Pa

5·坩堝尺寸：D90*50

6.控制方式：plc+模擬屏

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